近日，中國科學院光電技術(shù)研究所微電子專用設(shè)備研發(fā)團隊在微納制作設(shè)備領(lǐng)域再次發(fā)力，自主研制成功紫外納米壓印光刻機，其成本僅為國外同類設(shè)備的三分之一，推進我國微納實用制造水平邁上新的臺階。

　　光刻機是實現(xiàn)微納圖形加工的專用高端設(shè)備，它的出現(xiàn)使集成電路得以誕生，引發(fā)了第三次工業(yè)革命，人類進入信息時代。光電所自主研發(fā)的紫外納米壓印系列光刻機，將納米壓印這一新型高分辨力光刻技術(shù)與具有低成本、高效率特點的紫外光刻技術(shù)有機結(jié)合，成功將加工制作成本減至國外同類設(shè)備的三分之一，同時還在同一加工平臺上實現(xiàn)了微米到納米級的跨尺度圖形加工。

　　值得一提的是，這套設(shè)備采用新型納米對準技術(shù)，將原光刻設(shè)備的對準精度由亞微米量級提升至納米量級。對準是光刻設(shè)備三大核心指標之一，是實現(xiàn)功能化器件加工的關(guān)鍵。光電所在國家自然基金的連續(xù)資助下，完成基于莫爾條紋的高精度對準技術(shù)自主研發(fā)，取得專利20余項。該技術(shù)在光刻機中的成功應(yīng)用突破了現(xiàn)有納米尺度結(jié)構(gòu)加工的瓶頸問題，為高精度納米器件的加工提供了技術(shù)保障。設(shè)備可廣泛應(yīng)用于微納流控芯片加工、微納光學元件、微納光柵、NMEMS器件等微納結(jié)構(gòu)器件的制備，具有廣闊的應(yīng)用前景。目前設(shè)備已完成初試和小批生產(chǎn)，并在高校與企業(yè)用戶中進行了推廣，獲得了用戶一致好評。

　　近期，由中國半導體行業(yè)協(xié)會、中國電子材料行業(yè)協(xié)會、中國電子專用設(shè)備工業(yè)協(xié)會、中國電子報社共同舉辦的“第十屆（2015年度）中國半導體創(chuàng)新產(chǎn)品和技術(shù)”頒獎大會在北京舉行，該產(chǎn)品在大會中榮獲“第十屆（2015年度）中國半導體創(chuàng)新產(chǎn)品和技術(shù)”獎。

光電所自主研制的紫外納米壓印光刻機